新的Hafnium Group革命性EUV石材印刷

快速發展的技術世界需要創造出令人難以置信的小型和準確的電子組件。該領域最大的挑戰之一是開發材料，可以創造出最少能源消耗的高分辨率形式。如果有一種方法可以用更少的能量來創建這些複雜的設計，從而使整個過程更便宜，更有效，那將是什麼？材料類別（特定的HFNimum，高度羥基）的最新進展顯示出實現這一目標的巨大希望。這些新材料不僅可以減少必要的能量，還可以通過為下一代電子設備鋪平道路來提高圖案的準確性

來自台灣國家的全國Hua大學的研究團隊在印刷紫外線（EUV）方面取得了重大進展，這是Semi-Hsi-hsiung Liu的重要技術，以及Yu-fang Tseng，Pin-Chia Liao，Tsi-H-Hesiyg Chen教授。 Gau，Burn-Jeng Lin博士和Po-Wen Chiu。該團隊已經達到了Hafnium集群的合成。

該研究的主要興趣是開發可以實現高分辨率模型的照片，而所需的能量量顯著減少。傳統的EUV攝影師傾向於使用大量的EUV光，使過程既昂貴又利用大量能量。但是，該團隊開發的新的HFNIUM組可以創建一個高分辨率模型，其中一半的納米含量僅在於必須較早使用的能量的一半。這是以前的攝影師的顯著改善，通常需要更高。

Liu解釋說：“我們的新光構天設計增加了HF中碳纖維的氫氧化物替代物。₆哦₄（哦）₄（RCO₂–₁₂ 不僅可以改善EUV分辨率的組，而且有助於大大減少所需的EUV量。 “該研究描述了HF氫氧化高的合成。₆哦₄（哦）₈ （RCO₂–₈ 該集群通過降低能耗和提高效率來強調EUV石材打印過程的潛力。

研究小組使用高級技術的組合來檢查其發現。使用光學顯微鏡（OM）和原子顯微鏡（AFM）製備並分析了HFNIUM組的薄膜，表明沒有可見的缺陷和非常光滑的表面。此外，電子教育表現出敏感性和解決光孔抗命劑的優越問題的能力，並具有較高的電子體積的高精度樣式。

這些輕型技術人員性能的更好機制涉及兩種EUV的整合：HF-OH脫水和脫羧光源。這些過程有助於形成一種新的和精確的形式，使新的HFNUM組成為適合於下一個半半數生產的選項。

劉強調了這項研究的更廣泛含義，並指出：“我們的發現為將金屬貨物群作為EUV攝影師的發展打開了一個新的機會，並通過改善該過程。脫羧的光水解和脫水過程，這些群體在印刷EUV中的成功應用是對更有效和更具成本效益的半效率技術的重要一步。

總而言之，Jui-hsiung Liu和他的同事在EUV石材印刷方法中展示了他們在HFNIUM組設計中的創新方法中的重要進展，高度羥化物有可能通過在低能中實現高分辨率模式來改變分號行業。由於對較小，更強大的電子產品的需求，該開發將在應對未來的技術挑戰方面發揮重要作用。

參考期刊

Tseng，Yu-Fang，Pin-Chia Liao，Po-Hsiung Chen，Tsai-Shaheng Gau，Burn-Jeng Lin，Po-Wen Chiu和Jui-hsiung Liu。 “ Hafnium Hydroxyleted非常容易獲得。” 2023。 Doi： https://doi.org/10.1039/d3na00508a